재료의 조성 측정(measurement)방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, A…
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작성일 20-05-10 07:29본문
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10. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
(4) 측정 방법
1. 분말X선회절법에 의한 동정법의 특징
1) X-ray 발생장치(X-ray Generator)
(3) FTIR의 구성
(3)XRD 시스템
(4) 적용범위
(3) XRF의 종류
(5) 分析(분석)방법





2. TGA (ThermoGravimetric Analysis)
(4) FTIR에서의 Sampling 기법
2. TG 미분곡선
1. X-ray란?
7. XRF (X-Ray Flourescence Spectrometry)
(2) ESCA 장치의 주요 구조
여러가지 측정(measurement) 방법에 대한 원리, 實驗(실험)방법, 적용범위
(1) 기본원리
(3) TG의 가중기법
8. ICP-MS (Inductively Coupled Plasma)
(2) EDS를 이용한 정constituent 석
(2) 결과 分析(분석)
4. 색인서(Index book)
4. FTIR (Fourier transform infrared spectroscopy)
2. X선에 의한 동정법의 한계
(2) FTIR의 特性
1. TG 곡선의 의미
(4) 시차온도곡선의 이해
(5) DTA의 특징
(4)XRD 實驗방법
재료의 조성 측정(measurement)방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)
1. X-선 회절의 조건은?
4)Filter
3. DTA (Differential Temperature Analyzer)
(1) 기본원리
(2) XRF의 이용
5. AES(Auger Electron Spectroscopy)
(1) 장치 구성
(2) AAS의 구성
(1) ICP-MS란?
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(4) 分析(분석)방법
4. 응용예
3. 분해反應(반응)속도 항수의 계산
9. AAS (atomic absorption spectroscopy)
(2) AES/SAM의 구조
(5) 정량 分析(분석) (Quantitative analysis)
2). Goniometer
4. 전형적인 TG-curve
1. XRD (X-ray Diffraction)
2. 열안정성
(1)X-ray 기본원리
2. X-ray의 발생
2. Direction of Diffracted Beam
(1) 기본원리
1. 조성의 分析(분석)
(1) EDS 개요
(4) 화학적 이동 (Chemical shift)
(6) 시료 준비
순서
3. 分析(분석)에 이용하는 X-ray는?
Reference
1. XRD 구성
재료의 조성 측정(measurement)방법
(1) X-선 형광이란
재료의 조성 측정(measurement)방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)
Download : 재료의_조성_측정방법.hwp( 30 )
(3) EDS를 이용한 원소의 정량分析(분석)
(3) 광전자 스펙트럼 (Photoelectron spectrum)
레포트 > 공학,기술계열
(3) 감도 및 검출 한계
(3) AES分析(분석)의 종류
(4) 충전efficacy(charging effect)
(7) advantage(장점) 과 단점
재료의 조성 측정방법
(3) 기존 장비와의 비교
(1) AAS원리
(1) 장치 구성
설명
(3) DTA peak 해석
6. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)
(2) 구성장치
재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS) 여러가지 측정 방법에 대한 원리, 실험방법, 적용범위 재료의 조성 측정방법
3. 미분곡선을 이용하는 이점
(5) 주요 적용 범위
(2) 전자저울 종류
3) 계수기록장치(Electronic Circuit Panel)
(2)Bragg’s Law
3. ICDD card
다.